特点：
同时配备高效的电阻加热蒸发装置和先进的圆柱磁控溅射装置，加热蒸发镀膜技术和磁控溅射镀膜技术的有效结合，使设备的适用范围更广，可得到多种不同性能的膜层。适用在塑料、陶瓷、金属等材质上镀制仿金膜、铝膜等。
更换不同的靶材，如：铝、铜、
不锈钢、钛、镍耙等。可得到不同的膜系，如超硬、耐磨、防腐的合金膜等。设备采用独特的双门结构，使工件及镀料的装卸与镀膜同时进行，大大提高了工作效率。
用途： 本机是采用磁控溅射方式，镀制阳光控制膜和低发射率膜建筑玻璃的*设备。它利用靶在镀膜室中的移动镀
制化合物/金属的多层膜系，以达到所要求的光学和装饰性能。
