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日本KBSEIREN Savina MX擦拭布

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  • 公司:深圳市宝安区民治庆高科技商行
  • 产品介绍
    是日本KBSEIREN株式会社(原KANEBO)开发的目前*高级的无尘擦拭布系列产品,吸水吸油性极强,不磨损原件。广泛用于光学镜头制造,办公器材保养,10级以上的无尘车间净化室,半导体生产线车间等领域。cleanroom wiper

    日本KANEBO公司生产的HITECLOTH 超细纤维无尘布是由Belima.X织成,其不规则的纤维排布组成适用于各种不规则物体的细微表面处理,不会掉绒毛,超柔软布质及高度抗磨损特性可应用于精密仪器之保养

    规格:24CM X 24CM

    包装:100片/包
    高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言,高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求,具有出色的功能,足以应对超级无尘室中的极端无尘条件。

    无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备,同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina MX具备此类擦拭布所需的所有属性,是性能*好的擦拭布之一,专为高科技时代而设计。


    超级高收缩、高密度整理产品




    Savina MX的横截面
    Savina MX的横截面

    Savina MX的表面
    Savina MX的表面

    Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成,其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理,就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g,从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g

    特 色
    •掉毛量极少。
    •迅速而积极地吸收并留住水分。
    •残留离子和其他物质的溶解率较低。
    •具备高端的擦拭布性能(灰尘清除量*大,同时不会污染无尘室设备)。

    用 途

    用途
    •光磁盘、硬盘和软盘的生产过程
    •液晶偏转板以及其他物品的生产过程
    •光盘和磁盘的生产过程
    •录像机的生产过程
    •隐形眼镜的生产过程
    •相机装配线
    •印刷电路板的清洁工艺
    •相机镜头镀膜前的清洁工艺
    •药品生产线清洁工艺
    •电影胶片清洁工艺
    •半导体和基础电路的生产过程
    •精密涂层之前工件的清洁过程
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