精密温度控制
滚筒90英寸的直径
●±1％或1℃温度控制在滚筒表面
●-100℃到+ 300℃温度配置
●网络速度选项
0.1 - 5米/分钟(+ / - X ％的速度精度)
1.0 - 15米/分钟(+ / - X ％的速度精度)
10 - 50米/分钟(+ / - X ％的速度精度)
注入沉积区域差异提供2来源/区
●X沉积区为正面涂层总计高达X源位置
●X沉积区为背面涂层总计高达X源位置
沉积选项
●可旋转的或平面磁控管溅射阴极
●标准功率配置- RF、脉冲直流,直流、交流和HIPIMS
●每个沉积位置也可以配置为下面的沉积来源
●PECVD方法,离子源,XXXXX
设施需求
●近似系统尺寸,长度,宽度和间隙区域
●*冷冻水系统
●电力需求依赖于源配置
●多个*的地面接地连接\
●
洁净室的兼容性
●网络连接或*电话线路
