磁控溅射铝靶材 ,反应磁控溅射*铝靶材 ,离子镀溅射*铝靶材,离子束溅射*铝靶材,圆片圆形铝靶材,高纯铝靶材,金属铝靶材,铝靶材定做 ,铝靶材99.999% ,进口铝靶材,科研用铝靶材,实验用铝靶材,铝靶材 ,公差铝靶材。
物理性质  颜色 银白色金属
  密度 27g/cm3
  熔点 660℃
技术指标  纯度 4N-6N
  相对致密度 >99%
  公差 ±0.1mm
  晶粒度 均匀
材质 CNM-高纯铝
产地 北京中金研新材料科技有限公司
产品规格  根据客户需要进行定制,来样加工,来图加工
*少起订量 1pcs
供货能力 同批次,同材质,持续可靠供应,200pcs/月
交货期 单片材料8个工日发货,批量材料15天-20天内发货(工作日)
制作工艺 真空磁悬浮熔炼,热压,热等静压,特殊熔炼,浇铸成锭,热机械处理,
加工中心适用仪器 各类型号磁控溅射设备。
产品用途 实验或研究级别用金靶材 ,电子,光电,军用,装饰,功能薄膜等。
认 证 ISO9001,ISO14001,SGS
产品优点  高品质,高纯度,价格优惠
  高真空熔炼,湿法提纯制备,电子束熔炼提纯,化学法提纯,纯度高,杂质少
  反复锻造,进口轧机轧制,气氛保护,氧化少,成型可塑
  相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高
  薄膜均匀,耐腐蚀性高,薄膜牢固度好。