基本说明
半导体产品清洗用
超纯水设备关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。半导体超纯水设备 我公司设计的超纯水设备采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的二级反渗透+EDI+精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2 MΩ.cm
产品特点
为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质
过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、
精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。 系统中
水箱均设有液位控制系统、
水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用
PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用*和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
参数规格
半导体超纯水设备工艺预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→
紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）(*新工艺) 我们有详细的CAD工艺流程图及设计制作图纸,欢迎来电咨询。
适用范围
☆半导体材料、器件、印刷
电路板和集成电路☆电解
电容☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路☆电解
电容器生产铝箔及工作件的清洗
